Mesure de l'épaisseur des matrices

Lors de la production de supports de données optiques, les données sont dans un premier temps transmises sur une station maître. A partir de cette station maître, plusieurs matrices en nickel sont créées par galvanisation en fonction du nombre de copies. Pour une production parfaite, ces matrices doivent présenter une épaisseur de 297 µm ± 3 µm. Le respect de cette valeur est contrôlé plusieurs fois durant le processus de galvanisation. A cet effet, la société ISEDD GmbH de Bielefeld a développé un appareil de mesure permettant de procéder à des contrôles rapides et précis sur les matrices. La mesure d’épaisseur s’effectue à l’aide de capteurs capacitifs de Micro-Epsilon.

(MVA)

Capteurs et produits adéquats

Capteurs de déplacement capacitifs sans contact

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