Interféromètre à lumière blanche pour le positionnement des masques en lithographie

Dans le processus de lithographie, une mesure à haute résolution et stable à long terme des mouvements de la machine est nécessaire pour obtenir une précision maximale. Grâce à des algorithmes d'évaluation spéciaux et à une compensation active de la température, l'interféromètre à lumière blanche IMS5400 de Micro-Epsilon permet de positionner les masques avec une précision de l'ordre du nanomètre. Des capteurs, des câbles et des passages de câble utilisables en vide permettent l’application dans des environnements sous vide.