Semi-conducteurs

Les systèmes de déflectométrie reflectCONTROL sont utilisés pour mesurer la planéité des wafers de 150 mm. Ceux-ci enregistrent la planéité en une seule prise. Pour cela, les capteurs projettent sur le wafer un motif de franges, qui est…

Des capteurs de déplacement capacitifs sont utilisés pour la mesure exacte de l'épaisseur des tranches. Deux capteurs opposés mesurent l'épaisseur et déterminent d'autres paramètres tels que la flexion ou les marques de sciage. La position de la…

Les scanners de profil laser de Micro-Epsilon sont utilisés pour inspecter la géométrie des lingots de silicium. Ceux-ci enregistrent la géométrie intégrale des barres de silicium. Cela permet de déterminer les déviations géométriques du bloc de…

Des capteurs confocaux chromatiques scannent la surface des wafers pour en détecter la flexion et le gauchissement. Avec une haute fréquence de mesure, les contrôleurs confocalDT permettent des mesures hautement dynamiques afin de tester les…

Pour la détection et la mesure automatiques des stries, les capteurs confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés. La compensation de surface rapide dans le contrôleur règle les cycles d’exposition afin d’assurer une stabilité de signal…

Les capteurs de déplacement confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés pour l’inspection des bumps. Ces capteurs projettent une petite tache lumineuse sur le wafer et grâce à la haute résolution, ils détectent parfaitement les plus…

Lors de la manipulation des wafers, un positionnement exact et reproductible est déterminant. Lors de l'alimentation des wafers, deux micromètres laser optoCONTROL vérifient le diamètre et déterminent ainsi la position horizontale. Grâce à leur…

Dans le processus de lithographie, une mesure à haute résolution et stable à long terme des mouvements de la machine est nécessaire pour obtenir une précision maximale. Grâce à la haute résolution, les capteurs capacitifs de Micro-Epsilon…

Dans le processus de lithographie, une mesure à haute résolution et stable à long terme des mouvements de la machine est nécessaire pour obtenir une précision maximale. Grâce à des algorithmes d'évaluation spéciaux et à une compensation active de…

Les capteurs confocaux chromatiques sont utilisés pour la mesure d’épaisseur unilatérale des revêtements. Ce principe de mesure permet l’évaluation de plusieurs peaks de signal et de déterminer ainsi l’épaisseur des matériaux transparents. Grâce…

La détection d’encoche sur un wafer est une étape de production cruciale dans la fabrication des semi-conducteurs. Elle doit être réalisée avec une exactitude absolue afin de garantir la plus haute qualité et précision des puces semi-conductrices fabriquées. Pour cette détection de position de haute précision, des capteurs à fibre optique optoCONTROL CLS1000 sont utilisés.

Les capteurs de déplacement capacitifs sont utilisés pour le positionnement fin dans le porte-plaquette. Les capteurs mesurent la position de la platine en différents points, ce qui peut être utilisé notamment pour un alignement de précision.…

Les capteurs de déplacement inductifs sans contact (courant de Foucault) mesurent la position des éléments de lentilles afin d’obtenir la plus grande précision d’image possible. En fonction de la structure du système, les capteurs de déplacement…

Pour exposer des composants individuels sur la plaquette, les appareils de lithographie déplacent la plaquette à la position correspondante. Les capteurs de déplacement capacitifs mesurent la position de la course afin de permettre un…

Les capteurs sans contact de Micro-Epsilon sont utilisés pour la surveillance du porte-plaquette pour les wafers (anglais: wafer stage) où ils mesurent les mouvements XYZ hautement dynamiques par des accélérations élevées du positionnement du…

Les interféromètres à lumière blanche de la série interferoMETER IMS5600 de Micro-Epsilon sont utilisés pour surveiller la position du porte-plaquette. Ils y mesurent les mouvements XYZ par des accélérations extrêmement élevées. Les systèmes de…

Les capteurs de déplacement capacitifs mesurent l'inclinaison des porte-lentilles avec une précision de l'ordre du nanomètre. Grâce à la haute précision des mesures, une projection reproductible est assurée. Plusieurs capteurs mesurent sur le…

Des capteurs confocaux sont utilisés pour mesurer l'alignement de l'optique. Plusieurs capteurs mesurent directement sur l'optique afin de détecter l'inclinaison avec une précision de l'ordre du nanomètre. Contrairement aux capteurs…

Les lingots sont souvent pourvus d'encoches d'orientation nécessaires à l'alignement des lingots. Des scanners à laser bleu de Micro-Epsilon sont utilisés pour vérifier la précision dimensionnelle du profil des encoches. Ceux-ci enregistrent le…

Les capteurs confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés pour déterminer les fissures et autres défauts sur le wafer. Grâce à la rapide compensation de surface dans le contrôleur, les surfaces présentant des variations de réflectivité…

Les capteurs confocaux chromatiques mesurent l’écart d’épaisseur ou l’épaisseur du wafer de chaque côté. Le profil d’épaisseur du wafer permet également de déterminer des déformations et des gauchissements. Grâce à la fréquence de mesure élevée,…