Positionnement des masques en lithographie

Dans le processus de lithographie, une mesure à haute résolution et stable à long terme des mouvements de la machine est nécessaire pour obtenir une précision maximale. Grâce à la haute résolution, les capteurs capacitifs de Micro-Epsilon permettent de positionner les masques avec une précision nanométrique. Leur conception adaptée au vide permet d'utiliser les capteurs et les câbles dans l'ultra-vide.