Avec le capteur IMP-NIR-TH3/90/IP68, Micro-Epsilon élargit sa gamme interferoMETER avec un capteur particulièrement robuste pour la mesure d'épaisseur en ligne de wafers de silicium et de SiC. Le capteur dispose d'une trajectoire de faisceau de 90° ainsi que d'une petite distance de travail de seulement 3 mm, ce qui le rend idéal pour les applications où l'espace de montage est très limité.
Mesure stable pendant le processus de polissage
C'est justement dans les processus exigeants comme le polissage à la boue que le capteur montre ses atouts : le boîtier robuste en acier inoxydable IP68 permet une utilisation directement dans la machine, même en cas d'humidité élevée et en présence de particules. Une optique propre est particulièrement importante pour les processus de polissage et de rodage. Pour ce faire, le dispositif de soufflage d'air intégré libère durablement l'optique des particules et permet ainsi des mesures stables.
Guidage du faisceau à 90° pour les espaces de montage restreints
Une caractéristique centrale du capteur est la trajectoire du faisceau à 90°, qui permet de l'intégrer même dans des espaces très limités. La distance de travail de 3 mm seulement et le très petit point lumineux de 15 µm de diamètre créent la base pour des mesures en ligne précises directement dans la machine. Le capteur IMP-NIR-TH3/90/IP68 fonctionne avec le contrôleur IMS5420 et fournit une solution compacte avec une grande fiabilité des processus pour la mesure des wafers fortement dopés, pour lesquels une qualité de signal élevée est essentielle.