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Mesure de distance à précision nanométrique en ultravide

Avec le nouvel interferoMETER IMP DS35/VAC, Micro-Epsilon élargit sa gamme d’interféromètres à lumière blanche à mesure absolue avec un capteur compatible avec le vide, doté d’un grand écartement de base. Ce capteur permet des mesures de distance sans contact avec une résolution nanométrique et ouvre de nouvelles perspectives pour les applications exigeantes dans la production de semi-conducteurs et de wafers en verre.

Les interféromètres innovants à lumière blanche de la série interferoMETER de Micro-Epsilon assurent des mesures de distance absolues, sans contact et de très haute précision. Avec le nouvel IMP DS35/VAC, Micro-Epsilon complète sa gamme de capteurs par un modèle spécialement conçu pour les environnements sous vide, jusqu’à l’ultravide (UHV). Le capteur associe un grand écartement de base d’environ 35 mm à une résolution inférieure à 1 nm. Il convient ainsi particulièrement aux tâches de mesure exigeantes pour lesquelles la précision, la stabilité des processus et la facilité d’intégration sont déterminantes.

Grand écartement de base pour de nouvelles applications

L’IMP DS35/VAC offre une plage de mesure de 2,1 mm, avec un début de plage de mesure situé à environ 35 mm. Il permet ainsi d’effectuer des mesures de distance précises à une distance sûre, par exemple pour la surveillance de position dans la production de wafers en verre ou pour les mesures sur des wafers revêtus. Le grand écartement de base facilite également les mesures dans des zones profondes ou difficiles d’accès. Avec un diamètre du spot lumineux de seulement 15 µm, même les petites structures peuvent être détectées de manière fiable, tandis que l’angle d’inclinaison de ±1° favorise la stabilité des résultats de mesure, même dans des conditions de montage exigeantes.

Haute précision associée à des contrôleurs performants

L’IMP DS35/VAC dispose d’un boîtier robuste en acier inoxydable et est conçu pour une utilisation dans des environnements sous vide, jusqu’à l’ultravide (UHV). Le nouveau capteur est compatible avec les contrôleurs IMS5400 et IMS5400MP, permettant d’atteindre des résolutions inférieures à 1 nm et des écarts de linéarité inférieurs à ±50 nm. Le système convient ainsi aux mesures de distance de très haute précision dans les processus modernes de production et de contrôle. Le contrôleur IMS5400MP permet en outre d’effectuer des mesures de distance multi-pics sur un maximum de 13 couches. Cela ouvre des possibilités supplémentaires pour l’analyse des matériaux transparents, revêtus ou multicouches.

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