Semi-conducteurs

Flexion des wafers

Des capteurs confocaux chromatiques scannent la surface des wafers pour en détecter la flexion et le gauchissement. Avec une fréquence de mesure de 70 kHz, les contrôleurs confocalDT permettent des mesures hautement dynamiques afin de tester les wafers dans des temps de cycle très courts.

Reconnaissance et mesure des stries

Pour la détection et la mesure automatiques des stries, les capteurs confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés. La compensation de surface rapide dans le contrôleur règle les cycles d’exposition afin d’assurer une stabilité de signal maximale sur des surfaces présentant différentes propriétés de réflexion. Grâce à l’inclinaison à grand angle et au petit point lumineux, les capteurs confocaux de Micro-Epsilon permettent une détection fiable des stries et des autres cavités sur le wafer.

Reconnaissance et mesure des bumps sur les wafers de silicium

Les capteurs de déplacement confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés pour l’inspection des bumps. Ces capteurs projettent une petite tache lumineuse sur le wafer et grâce à la haute résolution, ils détectent parfaitement les plus petits composants et structures. La forme et la dimension des bumps sont ainsi déterminées en toute fiabilité pour la mise en contact.

Mesurer les couches transparentes et les chenilles de colle

Les capteurs confocaux chromatiques sont utilisés pour la mesure d’épaisseur unilatérale des revêtements. Ce principe de mesure permet l’évaluation de plusieurs peaks de signal et de déterminer ainsi l’épaisseur des matériaux transparents. Grâce à la mesure multi-peak, le contrôleur confocalDT détermine de manière fiable l’épaisseur des couches de protection et de vernis.

Mesure d’épaisseur des wafers

Les capteurs confocaux chromatiques mesurent l’écart d’épaisseur ou l’épaisseur du wafer de chaque côté. Le profil d’épaisseur du wafer permet également de déterminer des déformations et des gauchissements. Grâce à la fréquence de mesure élevée, la mesure d’épaisseur d’un wafer peut s’effectuer dans des temps de cycle très courts.

Contrôle des fissures et des ruptures

Les capteurs confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés pour déterminer les fissures et autres défauts sur le wafer. Grâce à la rapide compensation de surface dans le contrôleur, les surfaces présentant des variations de réflectivité peuvent être détectées de manière fiable. Le spot de lumière extrêmement petit et la haute résolution permettent de détecter aisément même les moindres irrégularités sur le wafer.

Positionnement du système de lentilles dans les machines de lithographie

Les capteurs de déplacement inductifs sans contact (courant de Foucault) mesurent la position des éléments de lentilles afin d’obtenir la plus grande précision d’image possible. En fonction de la structure du système, les capteurs de déplacement sont utilisés pour détecter jusqu’à 6 degrés de liberté. Grâce à la haute fréquence limite, les capteurs eddyNCDT peuvent également surveiller des mouvements hautement dynamiques des systèmes de lentilles.

Positionnement du porte-plaquette

Les capteurs sans contact de Micro-Epsilon sont utilisés pour la surveillance du porte-plaquette pour les wafers (anglais: wafer stage) où ils mesurent les mouvements XYZ hautement dynamiques par des accélérations élevées du positionnement du wafer. Les capteurs capacitifs et inductifs (à courants de Foucault) atteignent une résolution de l’ordre du nanomètre pour l’exposition, en permettant le positionnement correct du wafer au nanomètre près. Leur technologie innovante permet l’utilisation sous vide dans les champs hautement magnétiques.

Positionnement au nanomètre près dans les machines de lithographie

Pour exposer des composants individuels sur la plaquette, les appareils de lithographie déplacent la plaquette à la position correspondante. Les capteurs de déplacement capacitifs mesurent la position de la course afin de permettre un positionnement au nanomètre près.

Positionnement des masques en lithographie

Dans le processus de lithographie, une mesure à haute résolution et stable à long terme des mouvements de la machine est nécessaire pour obtenir une précision maximale. Grâce à la haute résolution, les capteurs capacitifs de Micro-Epsilon permettent de positionner les masques avec une précision nanométrique. Leur conception adaptée au vide permet d'utiliser les capteurs et les câbles dans l'ultra-vide.

Technologie de capteurs recommandée

capaNCDT 6200

Mesure de haute précision de l'épaisseur des tranches de silicium

Des capteurs de déplacement capacitifs sont utilisés pour la mesure exacte de l'épaisseur des tranches. Deux capteurs opposés mesurent l'épaisseur et déterminent d'autres paramètres tels que la flexion ou les marques de sciage. La position de la tranche dans la fente de mesure peut varier sans affecter la précision de mesure.

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