Semi-conducteurs

Les tâches de mesure dans l'industrie des semi-conducteurs exigent une précision et une reproductibilité maximales. Micro-Epsilon offre la bonne solution pour de nombreuses applications - du positionnement précis de la machine à la mesure de la topographie en passant par l’inspection des tranches.

Positionnement au nanomètre près dans les machines de lithographie

Pour exposer des composants individuels sur la plaquette, les appareils de lithographie déplacent la plaquette à la position correspondante. Les capteurs de déplacement capacitifs ...

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Reconnaissance et mesure des bumps sur les wafers de silicium

Les capteurs de déplacement confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés pour l’inspection des bumps. Ces capteurs projettent une petite tache lumineuse sur le wafer et grâce ...

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Test dimensionnel des lingots de silicium

Les scanners de profil laser de Micro-Epsilon sont utilisés pour inspecter la géométrie des lingots de silicium. Ceux-ci enregistrent la géométrie intégrale des ...

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Flexion des wafers

Des capteurs confocaux chromatiques scannent la surface des wafers pour en détecter la flexion et le gauchissement. Avec une fréquence de mesure de 70 kHz, les contrôleurs confocalDT ...

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Reconnaissance et mesure des stries

Pour la détection et la mesure automatiques des stries, les capteurs confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés. La compensation de surface rapide dans le contrôleur règle ...

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Mesurer les couches transparentes et les chenilles de colle

Les capteurs confocaux chromatiques sont utilisés pour la mesure d’épaisseur unilatérale des revêtements. Ce principe de mesure permet l’évaluation de plusieurs ...

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Contrôle des fissures et des ruptures

Les capteurs confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés pour déterminer les fissures et autres défauts sur le wafer. Grâce à la rapide compensation de surface ...

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Positionnement des masques en lithographie

Dans le processus de lithographie, une mesure à haute résolution et stable à long terme des mouvements de la machine est nécessaire pour obtenir une précision maximale. ...

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Interféromètre à lumière blanche pour le positionnement des masques en lithographie

Dans le processus de lithographie, une mesure à haute résolution et stable à long terme des mouvements de la machine est nécessaire pour obtenir une précision maximale. ...

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Détection de la forme 3D des plaquettes

Les systèmes de déflectométrie reflectCONTROL sont utilisés pour mesurer la planéité des wafers de 150 mm. Ceux-ci enregistrent la planéité ...

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Détection d’encoche précise sur un wafer

La détection d’encoche sur un wafer est une étape de production cruciale dans la fabrication des semi-conducteurs. Elle doit être réalisée avec une exactitude absolue afin de garantir la plus haute qualité et précision des puces semi-conductrices fabriquées. Pour cette détection de position de haute précision, des capteurs à fibre optique optoCONTROL CLS1000 sont utilisés.

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Positionnement du porte-plaquette à l'aide des capteurs capacitifs

Les capteurs de déplacement capacitifs sont utilisés pour le positionnement fin dans le porte-plaquette. Les capteurs mesurent la position de la platine en différents points, ce qui ...

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Positionnement du système de lentilles dans les machines de lithographie

Les capteurs de déplacement inductifs sans contact (courant de Foucault) mesurent la position des éléments de lentilles afin d’obtenir la plus grande précision d’image ...

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Test des encoches d'orientation sur les lingots de silicium

Les lingots sont souvent pourvus d'encoches d'orientation nécessaires à l'alignement des lingots. Des scanners à laser bleu de Micro-Epsilon sont utilisés pour vérifier ...

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Contrôle de l'inclinaison des porte-lentilles

Les capteurs de déplacement capacitifs mesurent l'inclinaison des porte-lentilles avec une précision de l'ordre du nanomètre. Grâce à la haute précision des mesures, ...

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Mesure d’épaisseur des wafers

Les capteurs confocaux chromatiques mesurent l’écart d’épaisseur ou l’épaisseur du wafer de chaque côté. Le profil d’épaisseur du wafer ...

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Surveillance de l'alignement des lentilles à l'aide de capteurs confocaux

Des capteurs confocaux sont utilisés pour mesurer l'alignement de l'optique. Plusieurs capteurs mesurent directement sur l'optique afin de détecter l'inclinaison avec une précision ...

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Positionnement du porte-plaquette avec des interféromètres à lumière blanche

Les interféromètres à lumière blanche de la série interferoMETER IMS5600 de Micro-Epsilon sont utilisés pour surveiller la position du porte-plaquette. Ils y mesurent ...

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Positionnement du porte-plaquette

Les capteurs sans contact de Micro-Epsilon sont utilisés pour la surveillance du porte-plaquette pour les wafers (anglais: wafer stage) où ils mesurent les mouvements XYZ hautement dynamiques ...

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Position lors de la manipulation des wafers

Lors de la manipulation des wafers, un positionnement exact et reproductible est déterminant. Lors de l'alimentation des wafers, deux micromètres laser optoCONTROL vérifient le diamètre ...

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Mesure de haute précision de l'épaisseur des tranches de silicium

Des capteurs de déplacement capacitifs sont utilisés pour la mesure exacte de l'épaisseur des tranches. Deux capteurs opposés mesurent l'épaisseur et déterminent ...

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