Semi-conducteurs

Positionnement au nanomètre près dans les machines de lithographie

Pour exposer des composants individuels sur la plaquette, les appareils de lithographie déplacent la plaquette à la position correspondante. Les capteurs de déplacement capacitifs mesurent la position de la course afin de permettre un positionnement au nanomètre près.

Positionnement des masques en lithographie

Dans le processus de lithographie, une mesure à haute résolution et stable à long terme des mouvements de la machine est nécessaire pour obtenir une précision maximale. Grâce à la haute résolution, les capteurs capacitifs de Micro-Epsilon permettent de positionner les masques avec une précision nanométrique. Leur conception adaptée au vide permet d'utiliser les capteurs et les câbles dans l'ultra-vide.

Technologie de capteurs recommandée

capaNCDT 6200

Mesure de haute précision de l'épaisseur des tranches de silicium

Des capteurs de déplacement capacitifs sont utilisés pour la mesure exacte de l'épaisseur des tranches. Deux capteurs opposés mesurent l'épaisseur et déterminent d'autres paramètres tels que la flexion ou les marques de sciage. La position de la tranche dans la fente de mesure peut varier sans affecter la précision de mesure.

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