Semi-conducteurs

Flexion des wafers

Des capteurs confocaux chromatiques scannent la surface des wafers pour en détecter la flexion et le gauchissement. Avec une fréquence de mesure de 70 kHz, les contrôleurs confocalDT ...

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Reconnaissance et mesure des stries

Pour la détection et la mesure automatiques des stries, les capteurs confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés. La compensation de surface rapide dans le contrôleur règle ...

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Reconnaissance et mesure des bumps sur les wafers de silicium

Les capteurs de déplacement confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés pour l’inspection des bumps. Ces capteurs projettent une petite tache lumineuse sur le wafer et grâce ...

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Mesurer les couches transparentes et les chenilles de colle

Les capteurs confocaux chromatiques sont utilisés pour la mesure d’épaisseur unilatérale des revêtements. Ce principe de mesure permet l’évaluation de plusieurs ...

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Mesure d’épaisseur des wafers

Les capteurs confocaux chromatiques mesurent l’écart d’épaisseur ou l’épaisseur du wafer de chaque côté. Le profil d’épaisseur du wafer ...

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Contrôle des fissures et des ruptures

Les capteurs confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés pour déterminer les fissures et autres défauts sur le wafer. Grâce à la rapide compensation de surface ...

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Positionnement du système de lentilles dans les machines de lithographie

Les capteurs de déplacement inductifs sans contact (courant de Foucault) mesurent la position des éléments de lentilles afin d’obtenir la plus grande précision d’image ...

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Positionnement du porte-plaquette

Les capteurs sans contact de Micro-Epsilon sont utilisés pour la surveillance du porte-plaquette pour les wafers (anglais: wafer stage) où ils mesurent les mouvements XYZ hautement dynamiques ...

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Positionnement au nanomètre près dans les machines de lithographie

Pour exposer des composants individuels sur la plaquette, les appareils de lithographie déplacent la plaquette à la position correspondante. Les capteurs de déplacement capacitifs ...

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Positionnement des masques en lithographie

Dans le processus de lithographie, une mesure à haute résolution et stable à long terme des mouvements de la machine est nécessaire pour obtenir une précision maximale. ...

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Mesure de haute précision de l'épaisseur des tranches de silicium

Des capteurs de déplacement capacitifs sont utilisés pour la mesure exacte de l'épaisseur des tranches. Deux capteurs opposés mesurent l'épaisseur et déterminent ...

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Micro-Epsilon France S.a.r.l.
14-16 rue des Gaudines / Strategy Center
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