Semi-conducteurs
Les tâches de mesure dans l'industrie des semi-conducteurs exigent une précision et une reproductibilité maximales. Micro-Epsilon offre la bonne solution pour de nombreuses applications - du positionnement précis de la machine à la mesure de la topographie en passant par l’inspection des tranches.
Positionnement au nanomètre près dans les machines de lithographie
Pour exposer des composants individuels sur la plaquette, les appareils de lithographie déplacent la plaquette à la position correspondante. Les capteurs de déplacement capacitifs ...
Afficher les détailsReconnaissance et mesure des bumps sur les wafers de silicium
Les capteurs de déplacement confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés pour l’inspection des bumps. Ces capteurs projettent une petite tache lumineuse sur le wafer et grâce ...
Afficher les détailsTest dimensionnel des lingots de silicium
Les scanners de profil laser de Micro-Epsilon sont utilisés pour inspecter la géométrie des lingots de silicium. Ceux-ci enregistrent la géométrie intégrale des ...
Afficher les détailsFlexion des wafers
Des capteurs confocaux chromatiques scannent la surface des wafers pour en détecter la flexion et le gauchissement. Avec une fréquence de mesure de 70 kHz, les contrôleurs confocalDT ...
Afficher les détailsReconnaissance et mesure des stries
Pour la détection et la mesure automatiques des stries, les capteurs confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés. La compensation de surface rapide dans le contrôleur règle ...
Afficher les détailsMesurer les couches transparentes et les chenilles de colle
Les capteurs confocaux chromatiques sont utilisés pour la mesure d’épaisseur unilatérale des revêtements. Ce principe de mesure permet l’évaluation de plusieurs ...
Afficher les détailsContrôle des fissures et des ruptures
Les capteurs confocaux chromatiques de Micro-Epsilon sont utilisés pour déterminer les fissures et autres défauts sur le wafer. Grâce à la rapide compensation de surface ...
Afficher les détailsPositionnement des masques en lithographie
Dans le processus de lithographie, une mesure à haute résolution et stable à long terme des mouvements de la machine est nécessaire pour obtenir une précision maximale. ...
Afficher les détailsInterféromètre à lumière blanche pour le positionnement des masques en lithographie
Dans le processus de lithographie, une mesure à haute résolution et stable à long terme des mouvements de la machine est nécessaire pour obtenir une précision maximale. ...
Afficher les détailsDétection de la forme 3D des plaquettes
Les systèmes de déflectométrie reflectCONTROL sont utilisés pour mesurer la planéité des wafers de 150 mm. Ceux-ci enregistrent la planéité ...
Afficher les détailsDétection d’encoche précise sur un wafer
La détection d’encoche sur un wafer est une étape de production cruciale dans la fabrication des semi-conducteurs. Elle doit être réalisée avec une exactitude absolue afin de garantir la plus haute qualité et précision des puces semi-conductrices fabriquées. Pour cette détection de position de haute précision, des capteurs à fibre optique optoCONTROL CLS1000 sont utilisés.
Afficher les détailsPositionnement du porte-plaquette à l'aide des capteurs capacitifs
Les capteurs de déplacement capacitifs sont utilisés pour le positionnement fin dans le porte-plaquette. Les capteurs mesurent la position de la platine en différents points, ce qui ...
Afficher les détailsPositionnement du système de lentilles dans les machines de lithographie
Les capteurs de déplacement inductifs sans contact (courant de Foucault) mesurent la position des éléments de lentilles afin d’obtenir la plus grande précision d’image ...
Afficher les détailsTest des encoches d'orientation sur les lingots de silicium
Les lingots sont souvent pourvus d'encoches d'orientation nécessaires à l'alignement des lingots. Des scanners à laser bleu de Micro-Epsilon sont utilisés pour vérifier ...
Afficher les détailsContrôle de l'inclinaison des porte-lentilles
Les capteurs de déplacement capacitifs mesurent l'inclinaison des porte-lentilles avec une précision de l'ordre du nanomètre. Grâce à la haute précision des mesures, ...
Afficher les détailsMesure d’épaisseur des wafers
Les capteurs confocaux chromatiques mesurent l’écart d’épaisseur ou l’épaisseur du wafer de chaque côté. Le profil d’épaisseur du wafer ...
Afficher les détailsSurveillance de l'alignement des lentilles à l'aide de capteurs confocaux
Des capteurs confocaux sont utilisés pour mesurer l'alignement de l'optique. Plusieurs capteurs mesurent directement sur l'optique afin de détecter l'inclinaison avec une précision ...
Afficher les détailsPositionnement du porte-plaquette avec des interféromètres à lumière blanche
Les interféromètres à lumière blanche de la série interferoMETER IMS5600 de Micro-Epsilon sont utilisés pour surveiller la position du porte-plaquette. Ils y mesurent ...
Afficher les détailsPositionnement du porte-plaquette
Les capteurs sans contact de Micro-Epsilon sont utilisés pour la surveillance du porte-plaquette pour les wafers (anglais: wafer stage) où ils mesurent les mouvements XYZ hautement dynamiques ...
Afficher les détailsPosition lors de la manipulation des wafers
Lors de la manipulation des wafers, un positionnement exact et reproductible est déterminant. Lors de l'alimentation des wafers, deux micromètres laser optoCONTROL vérifient le diamètre ...
Afficher les détailsMesure de haute précision de l'épaisseur des tranches de silicium
Des capteurs de déplacement capacitifs sont utilisés pour la mesure exacte de l'épaisseur des tranches. Deux capteurs opposés mesurent l'épaisseur et déterminent ...
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